日本首臺 EUV 光刻機(jī)開始安裝
日本半導(dǎo)體迎來特別時(shí)刻 —— 首次引入的量產(chǎn)用 “極紫外光刻機(jī)(EUV)” 開始安裝。
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報(bào)道,日本初創(chuàng)晶圓代工廠 Rapidus 已成功接收其訂購的首臺 ASML EUV 光刻機(jī),并于 12 月 14 日開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝。 Rapidus 購入的光刻機(jī)由荷蘭供應(yīng)商 ASML 生產(chǎn),型號為 NXE:3800E,晶圓吞吐量相較上代提升 37.5%,可以滿足 Rapidus 對于 2nm 芯片的制造需求。 該臺 EUV 系統(tǒng)體積龐大,完整設(shè)備重達(dá) 71 噸,高約 3.4 米,每個(gè)完整的單元大約和一頭鯨魚一樣大,它結(jié)合了特殊的光源、透鏡和其他技術(shù),對振動和其他干擾的敏感度較低。 安裝地點(diǎn)位于日本北海道千歲市的創(chuàng)新集成制造工廠(iim-1)。分四階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在本月底完。 Rapidus CEO 小池淳義表示,公司將從北海道和日本向全球提供最先進(jìn)半導(dǎo)體。 除 EUV 光刻機(jī)外,Rapidus 還將在其 iim-1 工廠安裝更多先進(jìn)的半導(dǎo)體制造輔助設(shè)備以及全自動材料處理系統(tǒng),以優(yōu)化 2nm GAA 半導(dǎo)體工藝的制造,并計(jì)劃繼續(xù)建設(shè)新的半導(dǎo)體代工服務(wù),稱為快速和統(tǒng)一制造服務(wù)(rums)。 Rapidus 正在與美國科技巨頭國際商業(yè)機(jī)器公司 IBM 合作開發(fā)多閾值電壓 GAA(全環(huán)繞柵極)晶體管技術(shù),計(jì)劃在 2025 年春季使用最先進(jìn)的 2 納米工藝開發(fā)原型芯片,并在 2027 年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。 這與臺積電計(jì)劃 2025 年開始量產(chǎn) 2nm 芯片的時(shí)間表相競爭。 ASML 是目前全球唯一的 EUV 光刻機(jī)供應(yīng)商,每臺設(shè)備成本約 1.8 億美元以上,去年全球僅交貨了 42 臺。 日本曾在 1980 年代占據(jù)全球超過 50% 的半導(dǎo)體市場份額,但到 2000 年代已退出先進(jìn)邏輯制程芯片的競爭。當(dāng)?shù)卣M栌?EUV 光刻工具大規(guī)模應(yīng)用,重振日本先進(jìn)芯片生產(chǎn)能力。

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